반도체 공정에서 초순수(UPW)가 중요한 이유
반도체 웨이퍼 세정, 포토리소그래피, CMP 공정에서 사용하는 초순수(Ultra Pure Water, UPW)는 일반 정수와 차원이 다른 수질 기준을 요구합니다. 미량의 이온, 유기물, 입자만으로도 회로 불량이 발생하므로 ppb(μg/L) 수준의 연속 모니터링이 필수입니다.
UPW 핵심 측정 항목
전도도(비저항) — 이온 오염의 1차 지표
UPW 품질은 비저항(Resistivity, MΩ·cm)으로 표현합니다. 순수 이론 최대값 18.2 MΩ·cm(25°C). 반도체 UPW 기준 15~18 MΩ·cm. 전도도 측정기(μS/cm)로 비저항 실시간 모니터링이 필수입니다.
TOC — 유기물 오염 지표
유기물 오염은 전도도로 감지되지 않습니다. TOC 분석기로 ppb 수준 유기탄소를 연속 측정해야 합니다. 반도체 UPW TOC 기준: 일반 1~5 ppb 이하.
TDS — 전체 용존 이온 확인
TDS 측정으로 RO 막·이온교환 수지 성능을 빠르게 확인합니다.
UPW 생산 공정 모니터링 포인트
전처리(응집/침전/여과) → RO 처리 → 이온교환 → UV 처리 → 최종 UPW 각 단계에서 전도도+TOC를 연속 측정하여 공정 이탈을 즉시 감지합니다.
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